[사설] 반도체 등 핵심기술, 안보 차원서 유출 막아야

삼성전자 D램 반도체 핵심 기술을 중국회사로 무단 유출한 혐의로 전직 삼성전자 부장 김모씨와 협력업체 직원이 구속됐다. 검찰은 김씨가 반도체 소형화를 위한 기술인 증착기술 자료뿐만 아니라 다른 7개 핵심기술을 넘긴 대가로 수백억원대 금품을 받은 것으로 의심하고 있다. 이들이 받은 대가는 수백억원대지만 피해금액은 2조3000억원에 달한다는 게 검찰 설명이다.

첨단기술 유출은 반도체에 국한되지 않고 이차전지, 디스플레이, 방위산업 등 핵심 산업에서 점점 더 기승을 부리고 있다. 국가정보원에 따르면 산업기밀 해외 유출 적발 건수는 2017년부터 지난해까지 최근 6년간 총 117건에 달한다. 매달 1.6건 꼴이다. 이에 따른 피해 규모는 25조원대다. 그중 36건은 '국가 핵심기술' 유출 사례였다. 올해는 11월까지 적발 건수가 벌써 23건에 이른다.

국가 핵심기술 유출문제는 단순히 산업 경쟁력이 침해되는 문제를 넘어 국가 기술 안보 차원에서 총력 대응해야 한다. 먼저, 처벌기준을 대폭 강화해야 한다. 유출한 경우 우리나라는 산업기술보호법상 징역 3년 이상 및 벌금 15억원 이하에 처해진다. 반면 경쟁국인 대만은 5년 이상 12년 이하의 유기징역과 우리 돈으로 약 42억원 이하의 벌금에 처해진다. 미국은 최고 등급의 경우 188개월(15년 8개월)에서 최대 405개월(33년 9개월)의 징역형을 내릴 수 있다.

그다음, 처벌을 엄정하게 해야 한다. 핵심기술 유출에 대한 처벌이 가볍고 그 가능성도 낮다. 기소 비중은 20% 안팎이고 실형을 받는 건 10건 중 1건에 불과하다. 그나마 실형을 받아도 양형 기준상 징역 5년을 넘는 경우는 거의 없다. 기술 유출의 심각성에 비춰볼 때 처벌은 너무 경미하다.

그런 만큼 법원은 기술 유출 범죄에 대한 양형기준을 대폭 높이고 재판도 신속하게 진행해야 한다. 기술유출 사건은 기본적으로 전문성이 필요하기 때문에 재판이 길어지는 성향이 있다. 피고인 구속 기간 6개월이 지나 석방이 되고 검사가 보통 2년마다 인사이동을 하면 실형을 선고하기 어렵게 된다.